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**【神奈川・平塚】水溶性ポリマーの合成設計(半導体ウェハ用)ポスドクの方歓迎!フォトレジストで世界トップ ※東証一部

おすすめPOINT ・上場企業且つ安定性が高い企業。離職率が低い会社です。(2.5%)居心地のいいアットホームな企業です。
・設立1940年・75年以上の歴史がある大手化学メーカーです。穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数20.6年です。平均年収814万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。

仕事内容 【フォトレジストで世界トップクラスのシェアを持つグローバルメーカー/グローバルニッチトップ企業100に選出/平均勤続年数20.6年・平均年収814万円と高水準】

■職務内容:半導体ウェハ加工用塗布液の開発、及び商業化(スケールアップ)を顧客、社内関連部署と共に推進していただきます。

■当社の魅力:
【急速に拡大する半導体市場で必要不可欠なフォトレジストで世界トップクラスのシェア】
今後情報社会が進む中、5Gやデータセンター向けの半導体需要が加速しています。当社は、長年蓄積してきた「微細加工技術」と「高純度化技術」をもって半導体製造関連の材料および、装置の開発・製造を国内・海外にて展開してきました。その中でもフォトレジストでは世界トップシェアを築いています。
【大手優良化学メーカー/社員定着率・働き方◎】
設立1940年・75年以上の歴史がある大手化学メーカーです。穏やかな社員が多く社員定着率も良く平均勤続年数20.6年です。平均年収814万円と高水準で、有給も取得しやすい環境です。

■勤務地補足:相模事務所は平塚駅から車で15分です。
勤務地 神奈川県 その他
勤務時間 <標準的な労働時間>
8:45~17:30 (所定労働時間:7時間45分)
休憩時間:60分
時間外労働有無:有

<フレックスタイム制>
コアタイム:10:00~15:00
補足事項なし
給与(時給・年収) 年収 450万円~650万円
応募資格 <学歴>大学院、大学、高等専門学校卒以上

<必要業務経験>
■必須条件:
※以下いずれかのご経験をお持ちの方
・水溶性ポリマーに対する知見
・合成技術の知見をお持ちの方経験

※フォトリソグラフィとは、写真の原理と似た技術です。フォトレジスト(感光性樹脂)にマスクパターン(設計図・模様)を転写し、像を描きます。そのフォトレジストの像(パターン)を利用して微細加工を行います。
活かせるスキル・経験 <学歴>大学院、大学、高等専門学校卒以上

<必要業務経験>
■必須条件:
※以下いずれかのご経験をお持ちの方
・水溶性ポリマーに対する知見
・合成技術の知見をお持ちの方経験

※フォトリソグラフィとは、写真の原理と似た技術です。フォトレジスト(感光性樹脂)にマスクパターン(設計図・模様)を転写し、像を描きます。そのフォトレジストの像(パターン)を利用して微細加工を行います。

企業情報

業界 化学関連メーカー
企業概要 国内外の大手エレクトロニクスメーカー・大手半導体メーカーを主要取引先に、半導体等の製造現場には欠かせない“微細加工技術”に使用される材料を製造・販売しているメーカーです。1960年代に他社に先駆けて国産化に成功して以来、あらゆるお客様のニーズに応える技術力を蓄積しながら、エレクトロ製品や携帯電話、PCなどの発展に貢献。強みは、材料に加え、その材料が使われる装置の同時開発によって、お客様に向けたさまざまな角度のアプローチに成功していること。今後も技術力と、M(material )&E(equipment)戦略の両輪で、ビジネスの強化を図っていきます。